Système d'exposition de masquage UVfor Wafer Samples est un système de table très compact, parfaitement monochromatique à 365 nm, contact dur et doux jusqu'à 4 pouces de wafer.
Séchage rapide 3DSystèmes de séchage UV simplesLes offres de vente pour les impressions 3D en résine sont un système de table très compact, parfaitement monochromatique à 365 nm, contact dur et doux jusqu'à 4 pouces.
Système d'exposition de masquage UV pour les échantillons de plaquettes :
1. Système de table très compact
2. Parfaitement monochromatique à 365 nm
3. Contact dur et doux jusqu'à la plaquette
4. Compatible avec les résines photosensibles
1. Spécifications principales
1.1 Taille du cadre : 6,8,12 pouces
1.2 Types de Film:Film UV
1.3 Spécification de plaquette : 12 pouces ou moins
1.4 Source de lumière d'irradiation :Source de lumière ultraviolette LED Source de lumière froide Longueur d'onde : 365 nm。
1.5 Intensité d'irradiation:600-1000mW/cm2
1.6 Place Fixation:6,8,12 pouces, peut passer l'un à l'autre
1.7 Mode de manipulation : prise manuelle
1.8 Positionnement du produit : une position de luminaire ne lui permet pas de bouger
1.9 Alimentation électrique:220V 350W 8A
1.10 Volume(L*L*H):645mm*620mm*195mm
1.11 Poids net : 40 kg
2. Caractéristiques de l'équipement
2.1 PLC + écran tactile Contrôle du logiciel。
2.2 Réglage du temps d'irradiation 1-999S。
2.3 Surveillance de la température, dépassement de la température de protection réglée, alarme
2.4 Capacité de production : environ 200 pièces par heure
2.5 Rinçage préalable à l'azote
3. Candidature :